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CMP终点检测方法与相变存储器底部接触结构形成方法

945   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 07:19:35
本发明提供一种相变存储器底部接触结构的形成方法，包括：提供表面形成有至少两个导电插塞结构的晶片；在该晶片的表面依次淀积刻蚀终止层、第一介电层、第二金属层；光刻、刻蚀第二金属层、第一介电层与刻蚀终止层形成开口，该开口的两个相对的侧壁分别落在两个导电插塞上；淀积第一金属层；去除相邻导电插塞之间的第一金属层；淀积第二介电层，填充所述开口；依次研磨第二介电层、第一金属层、第二金属层形成相变存储器底部接触结构，所述研磨过程中，采用感应电流法检测研磨终点。本发明还提供一种化学机械研磨终点的检测方法，不限于相变存储器底部接触结构的制作。采用本发明的技术方案，对研磨终点的判断准确，且对硬件的要求低。
声明：
“CMP终点检测方法与相变存储器底部接触结构形成方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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