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检测浅沟槽隔离缺陷的方法

1053   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 07:17:28
本发明提出一种检测浅沟槽隔离缺陷的方法，包括下列步骤：在半导体基底上形成浅沟槽；在所述浅沟槽内沉积垫氧化层；在所述垫氧化层上沉积界面层；在所述界面层上沉积二氧化硅氧化层；对上述结构进行检测，其中，在所述垫氧化层上沉积界面层的步骤采用原子层沉积方法。本发明提出的检测浅沟槽隔离缺陷的方法，能够有效检测出浅沟槽隔离的缺陷，并缩短高密度等离子体化学气相淀积填充浅沟槽的工艺调整周期。
声明：
“检测浅沟槽隔离缺陷的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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