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凸缘光学端点检测窗口和含有其的CMP抛光垫

848   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 07:17:28
本发明提供一种化学机械(CMP)抛光垫，其具有顶部表面、经调适以接收端点检测窗口的一个或多个孔口、具有凹陷部分且具有一个或多个凸缘端点检测窗口(窗口)的下侧，每个窗口具有经调适以紧密地装配到所述抛光层的下侧的凹陷部分中的凸缘，所述凸缘具有略微小于所述抛光层的凹陷部分的深度的厚度(以允许粘着剂)，具有紧密地装配到所述抛光层中的孔口中的检测区域以使得其顶部表面大体上与所述抛光层的所述顶部表面齐平。
声明：
“凸缘光学端点检测窗口和含有其的CMP抛光垫” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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化学分析
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