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用于高纯GaN单晶中痕量杂质元素分布的检测方法

1056   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 07:13:11
本发明涉及材料检测技术领域，且公开了一种用于高纯GaN单晶中痕量杂质元素分布的检测方法，包括以下步骤：步骤1、将待测的GaN单晶样品放置于样品室中的载物台上；步骤2、将样品室先抽真空，再通入载气，使样品室气压上升至大气压；随之抽真空，再次通载气至大气压，反复若干次；步骤3、将样品室通入载气并保持稳定气流持续吹扫样品室，引入ICP炬焰，检测各待测元素质荷比计数，直至待测元素质谱信号稳定后作为空白值。本发明无需强酸、强碱及消解设备，绿色环保，样品无需特别加工、检测方便快速、测定下限低，干扰少，灵敏准确；可直接用于高纯GaN的杂质元素含量测定和杂质元素分布平面(三维)测定；完全规避了样品化学消解带来的局限性。
声明：
“用于高纯GaN单晶中痕量杂质元素分布的检测方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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