描述了监控正经历抛光的衬底的摩擦系数的系统方法和设备。抛光垫组件包括具有抛光表面的抛光层和柔性耦合到抛光层的衬底接触构件,衬底接触构件具有接触衬底的暴露表面的顶表面。顶表面的至少一部分与抛光表面基本共面。设置传感器易测量衬底接触构件的横向位移。一些实施例可以在化学机械抛光期间提供精确的终点检测来指示下层的暴露。
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