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建立掩模版缺陷检测程式的方法

939   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 07:11:28
本发明涉及建立掩模版缺陷检测程式的方法，包括：提供一批掩模版，其中所述掩模版均为相移掩膜版、均为二元掩模板或为相移掩膜版和二元掩模板的混合；在所有掩模版的一相同固定位置设置一预定图形，其中对于相移掩膜版，所述预定图形包括石英图形区域、铬图形区域和合成化学材料图形区域，对于二元掩模板，所述预定图形包括石英图形区域和铬图形区域，而无需在每个掩模版内寻找一定大小纯石英、铬或合成化学材料的地方，而可缩减寻找掩模版缺陷检测校准点的时间，建立掩模版缺陷检测程式时无需基于光罩建立而直接将坐标定位到该固定位置即可，而可完成离线建立掩模版缺陷检测程式，从而在降低人员工作量的同时大幅提高机台产能。
声明：
“建立掩模版缺陷检测程式的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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化学分析
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