本发明公开了一种光调制太赫兹分子检测器件的制备方法,此方法利用简单的化学组装、气液界面分离、热力学调控,通过烧结温度和时间调控,得到了无缺陷的
石墨烯薄膜结构。此薄膜具有极低缺的陷态结构,一方面具有良好的面电阻(10‑30Ω/□),另一方面具有极好的光学响应性。将此薄膜贴附于石英表面并进行图案化,至于太赫兹光下,随着表面滴加分子浓度的增加,太赫兹透射光谱峰位会随之变化,因此可以制备成太赫兹分子检测器件,用于检测分子残留。
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