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用于化学机械抛光的实时轮廓控制

754   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 07:08:35
一种控制基板的处理的方法包括以下步骤：基于来自原位监测系统的信号，分别地产生指示在基板上的参考区域的物理性质的表征值的第一序列和指示在基板上的控制区域的物理性质的表征值的第二序列。分别地从表征值的第一序列和表征值的第二序列中确定参考区域速率和控制区域速率。通过对针对所述参考区域的表征值与针对所述控制区域的表征值进行比较来确定误差值。使用比例‑积分‑微分控制算法至少基于所述误差值和动态标称控制区域值来生成针对所述控制区域的输出参数值，并且所述动态标称控制区域值是至少基于所述参考区域速率和所述控制区域速率在第二控制环路中被生成的。根据输出参数值来处理基板的所述控制区域。
声明：
“用于化学机械抛光的实时轮廓控制” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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化学分析
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