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化学机械平坦化浆料及其形成方法

1105   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 07:08:35
一种CMP浆料，所述CMP浆料包括：载体；在所述载体内的微粒材料，其包括氧化物、碳化物、氮化物、硼化物、金刚石或其任何组合；氧化剂，其包括选自过氧化物、过硫酸盐、高锰酸盐、高碘酸盐、高氯酸盐、次氯酸盐、碘酸盐、过氧单硫酸盐、硝酸铈铵、高碘酸、铁氰化物或其任何组合的组的至少一种材料；并且根据标准化抛光测试，材料去除率指数(MRR)为至少500纳米/小时且平均粗糙度指数(Ra)不大于5埃。
声明：
“化学机械平坦化浆料及其形成方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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化学分析
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