一种基材处理系统,其包括一真空沉积处理室,该处理室具有一排气出口,用以在一沉积循环中排放一或多种颗粒及在一清洁循环中排放清洁气体反应物;及一原位颗粒监测器,其耦接至排气出口。原位颗粒监测器设置成可决定清洁循环的一起始点。等离子强化的化学气相沉积室更包括一红外光终点检测器组件,其耦接至排气出口。红外光终点检测器组件设置成可决定清洁循环的一终点。
声明:
“终点检测器及颗粒监测器” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)