本发明涉及一种气相沉积设备。本发明一种制备
石墨烯、六角氮化硼等薄膜材料的化学气相沉积装置,所述装置包括两个独立的真空腔体——主腔体(1)和副腔体(2)、加热装置(3)、测温装置、供气装置、抽气装置、冷凝装置、传动装置(4)、插板阀(5)及硼氮蒸发源(6)。其中主腔体(1)用于薄膜材料的制备,副腔体(2)用于硼氮源的洗气。本发明采用不锈钢腔壁,使用分子泵+机械泵的抽气装置,本底真空可达到10-8mbar,充分减少杂质气体分子对生长过程造成的影响。采用内加热方式,不仅能降低能耗,而且能形成温度更均匀的恒温区,而温度测量采用直接测量样品或者充分靠近样品,从而得到更准确的温度参数。设计内加热装置的移动降温功能,实现快速降温,有效减少降温过程中碳原子的析出。
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