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化学气相沉积装置及其温控方法

772   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 07:02:27
一种化学气相沉积装置，包括：反应腔；设置于所述反应腔底部的基座，用于支撑一个或多个待处理基片；用于加热所述基座与基片的加热单元；设置于所述反应腔顶部的气体喷淋组件，包括第一进气装置和第二进气装置，所述气体喷淋组件与所述基座之间形成反应区；设置于气体喷淋组件上用于封闭反应腔并包含冷却装置的盖体；所述盖体和所述气体喷淋组件之间形成有狭缝；第一温度测量装置，用于测量气体喷淋组件温度；温控供气装置，用于对A与B两种气体进行配比并根据测量的气体喷淋组件温度供应配比后的气体至所述狭缝。本发明通过调节气体喷淋组件与反应腔体冷却部件间的气体比例，实现气体喷淋组件温度的精确控制。
声明：
“化学气相沉积装置及其温控方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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