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提高等离子体辅助化学气相沉积设备性能的方法

815   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 07:02:26
本发明公开了一种提高等离子体辅助化学气相沉积设备性能的方法，其中，包括以下步骤：在一设置多个电阻感应器的等离子体辅助化学气相沉积设备的反应腔室中，淀积不同厚度的薄膜于所述反应腔室内壁，并且计算出电阻与所述薄膜厚度的变化关系；感应测试出所述腔室内壁淀积薄膜厚度为T时的电阻值R，比较R与所述反应腔室没有薄膜时的电阻值R0和所述反应腔室内淀积临界厚度薄膜Tm时的电阻值RM；当R≤RM时，所述电阻感应器触发所述PEVCD设备自动进行清洗；当R=R0时，所述PEVCD设备停止清洗。本发明能够精确计算出清洗该薄膜所需要的时间，提高设备的生成效率以及减小由内腔壁清洗不干净而导致的薄膜剥离污染。
声明：
“提高等离子体辅助化学气相沉积设备性能的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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