一种用于化学气相沉积液体原料汽化供给装置与使用方法,其供给装置包括储液罐、电子秤、汽化室、供气系统、管路、调节阀、截止阀、
真空泵和真空计;其使用方法包括:1、预备阶段;2、流量调节阶段;3、稳恒供气阶段;4、停机阶段。本发明与现有的液体原料汽化供给系统相比,该装置能够准确地实时测量液体原料汽化蒸汽的流量,并能根据CVD生产系统中过程工艺参数的变化,实时调节控制上料阀的开度,使液态原料的汽化流量可调、可控,保持均匀,从而为化学汽相沉积(CVD)生产设备提供有利的液态原料汽化供给装置。
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