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混合式化学机械抛光工艺的线上控制方法

892   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 07:01:16
本发明提供一种混合式化学机械抛光工艺的线上控制方法,首先提供一混合式化学机械抛光系统,包含第一抛光平台及第二抛光平台,分别为不同类型研磨抛光垫。提供一批次的待抛光产品晶片,其上已形成图案化结构,及第一介电层沉积在该图案化结构及第二介电层上。依序在该第一抛光平台上抛光该批次中至少3片的先行产品晶片,线上进行该先行产品晶片上剩余介电层厚度的量测,建立起一线性的抛光速率表,再依据该抛光速率表,依序在该第一抛光平台上抛光该批次中剩下的产品晶片,将该第一介电层厚度抛光至目标厚度。
声明：
“混合式化学机械抛光工艺的线上控制方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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