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化学机械抛光装置及其方法

1044   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 07:00:53
本发明涉及化学机械抛光装置及其方法，该装置包括：抛光头，以使晶片位于下侧的状态对晶片加压并使其旋转；垫高测定部，在化学机械抛光工序过程中，获取抛光垫的半径方向上的高度偏差；调节器，具有臂部和调节盘，臂部以铰链轴为中心旋回旋转规定角度，调节盘将抛光垫压向臂部的下侧并进行旋转；控制部，在第二位置上以第二旋回速度对臂部的旋回速度进行调节，第二位置上的抛光垫的高度高于第一位置上的高度，第二旋回速度小于第一旋回速度，由此，通过调节调节盘的旋回速度，能够缓和在抛光垫的不同位置上的高度偏差，因此，即便相同的施压力作用于晶片，根据抛光垫的高度偏差，摩擦力不同，从而能够按各区域调节晶片的每小时的抛光量。
声明：
“化学机械抛光装置及其方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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