合肥金星智控科技股份有限公司
宣传

位置:中冶有色 >

有色技术频道 >

> 化学分析技术

> 压电致动的化学机械抛光托盘

压电致动的化学机械抛光托盘

1050   编辑:管理员   来源:中冶有色技术网  
2023-03-19 07:00:50
一种化学机械抛光(CMP)控制系统控制被抛光半导体晶片背面上的压力分布。该系统包括CMP设备具有支承半导体晶片的托盘。该托盘包括多个双功能压电致动器。各致动器检出全晶片上的压力变化并且各自可控。控制器连接到致动器,用以监视所读出的压力变化和控制各致动器以提供全晶片上受控的压力分布。
声明:
“压电致动的化学机械抛光托盘” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
分享 0
         
举报 0
收藏 0
反对 0
点赞 0
标签:
化学分析
全国热门有色金属技术推荐
展开更多 +

 

中冶有色技术平台微信公众号
了解更多信息请您扫码关注官方微信
中冶有色技术平台微信公众号中冶有色技术平台

最新更新技术

报名参会
更多+

报告下载

第二届关键基础材料模拟、制备与评价技术交流会
推广

热门技术
更多+

衡水宏运压滤机有限公司
宣传
环磨科技控股(集团)有限公司
宣传

发布

在线客服

公众号

电话

顶部
咨询电话:
010-88793500-807
专利人/作者信息登记