本公开提供一种化学清洗液配置系统和方法。化学清洗液配置系统设置在化学机械抛光设备内,包括:第一混合系统,被配置为将第一化学溶液和第一稀释液混合,得到第一混合液;第二混合系统,被配置为第二化学溶液和第二稀释液混合,得到第二混合液;第三混合系统,被配置为将所述第一混合液、所述第二混合液和第三稀释液混合,得到第三混合液;输出系统,被配置为输出所述第三混合液至所述化学机械抛光设备的喷淋装置;采样系统,被配置为采样所述输出系统中输出的所述第三混合液,其中所述采样系统为与所述输出系统相连通的支路系统;监测系统,被配置为监测所述第一混合液、所述第二混合液,以及所述第三混合液的状态。
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