本实用新型涉及化工反应设备技术领域,尤其是一种化学气相沉积陶瓷保护膜反应装置,包括CH4储存罐、H2储存罐、蒸发器、CVD反应室和真空抽气泵, CH4储存罐和H2储存罐上均连接有支管,支管上且位于阀门的上方均设有流量计,支管另一端均连接有主管道,主管道上设有压力表和气体
检测仪,主管道另一端连接有蒸发器,述蒸发器上通过设有的出气管道连接有CVD反应室,CVD反应室两侧均设有高温炉,CVD反应室底端通过抽气管道连接有真空抽气泵,有益效果在于:通过气相化学反应形成固体物质沉积,不易受到外部环境影响;真空条件下进行沉积,提高获得沉积物效率,通过控制反应气体流量,从而控制涂层的密度,通过调节反应室内的真空压力从而有效控制涂层纯度。
声明:
“化学气相沉积陶瓷保护膜反应装置” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)