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用于硒化镉晶体的化学机械抛光方法

672   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 07:00:44
本发明公开了一种用于抛光硒化镉晶体的化学机械抛光方法。该方法分为两步，通过采用配制的粗抛光液、精抛光液先后进行粗抛光和精抛光，控制抛光液流速、抛光压力、抛光转速和抛光时间，以解决晶体表面划痕、凹坑等表面损伤问题，实现短周期内得到纳米级表面粗糙度的高质量光滑表面。采用本发明的化学机械抛光工艺，综合去除速率约为500nm/min，可以在较短时间内去除表面损伤层。晶片表面损伤层较薄，无麻坑等抛光缺陷；原子力显微镜（AFM）检测显示粗糙度Ra值小于1nm，更优的可小于0.5nm，划痕深度小于2nm。每个加工周期耗时小于60min，大大提升了抛光效率，进一步的降低了抛光成本。
声明：
“用于硒化镉晶体的化学机械抛光方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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