本实用新型涉及化学合成领域,尤其涉及一种化学合成装置。包括反应釜、温度控制系统和压力控制系统。温度控制系统包括加热装置、冷却装置、温度显示装置,冷却装置包括有其内部通入冷却剂的冷却管道,所述温度显示装置包括有温度检测机构和显示机构;压力控制系统包括
真空泵、抽真空口、排气口和压力显示装置,所述排气口和所述抽真空口位于反应釜的顶部,所述真空泵通过所述抽真空口与所述反应釜气体连通。本实用新型能够快速提高或降低反应温度,精确控制化学合成反应产物,使所需反应产物得率提高。
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