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通用化学机械抛光液

1088   编辑:管理员   来源:中冶有色技术网  
2023-03-19 06:58:59
一种通用化学机械抛光液,属于超硬材料超精密加工领域,其成分包含氧化锆磨料、硅酸钠分析纯试剂、去离子水。室温下,将磨料氧化锆、硅酸钠、分别加入去离子水中,超声设备中震荡5分钟得到化学机械抛光液。所述抛光液中,氧化锆浓度为0.05~0.09g/ml,粒径为0.05~0.2μm,所述的硅酸钠浓度为0.05~0.12g/ml。该化学机械抛光液具有通用性,能够用于抛光蓝宝石晶体,石英、金刚石、硅片、钨合金材料。相较于传统抛光液,晶体表面粗糙度降低,无损伤缺陷。且该新型抛光液的成本低廉,无需特殊工艺合成,并且所有组分均不会造成环境污染。
声明:
“通用化学机械抛光液” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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