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基于CsPbBr3/GO同型异质结构的分子印迹光电化学传感器及其制备方法和应用

998   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 06:58:59
本发明公开了一种基于钙钛矿量子点(CsPbBr3)和氧化石墨烯(GO)同型异质结构的分子印迹传感器的制备及其用于黄曲霉毒素B1(AFB1)的检测。本发明以CsPbBr3包裹或负载在氧化石墨烯的褶皱里面构建同型异质结构，聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)作为疏水层，并结合分子印迹技术，成功制备了分子印迹光电化学传感器。本发明制备的传感器以CsPbBr3和GO形成的同型异质结作为光电转换层，聚甲基丙烯酸甲酯作为保护层，并通过表面修饰含有毒素识别位点的分子印迹膜来实现AFB1的检测。该传感器具有检测范围宽，选择性好，灵敏度高，检测限高达0.74pg·mL‑1；同时响应稳定，具有良好的重现性。
声明：
“基于CsPbBr3/GO同型异质结构的分子印迹光电化学传感器及其制备方法和应用” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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