本发明公开了一种用于化学机械抛光的承载头,其包括承载盘、弹性膜和保持环,所述弹性膜设置于承载盘的下方,所述保持环设置于所述弹性膜的外周侧并位于承载盘的底部;所述弹性膜包括底板部、直立部和水平部,所述底板部为盘状结构,直立部沿所述底板部的外缘竖直向上延伸,所述水平部自所述直立部的顶端水平向内延伸;还包括应变检测件和位置调节件,应变检测件沿周向设置于承载盘的底部,并且,所述弹性膜加压后,所述水平部抵接于应变检测件,以测量水平部的应力信息;位置调节件与应变检测件水平相邻设置于承载盘,位置调节件能够抵接于水平部,其基于应变检测件的测量值调节水平部的应力,使得水平部构成的腔室沿圆周方向的变形均匀。
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