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化学机械抛光机台

1049   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 06:57:46
本实用新型公开一种化学机械抛光机台，用于在线检测抛光垫下方气泡，该化学机械抛光机台包括：基座，用于粘贴一抛光垫；调节盘，用于研磨抛光垫，所述调节盘耦合一垫高度感应装置，以监测调节盘的高度变化，当调节盘的高度变化超过一预定值，将抛光垫从基座上剥离，再另粘贴一抛光垫。其中在线侦测抛光垫下方气泡的方法是：将抛光垫粘贴在该基座上，进行抛光垫磨合，利用调节盘研磨抛光垫，在抛光垫磨合过程中，以垫高度感应装置监测调节盘的高度变化，当调节盘的高度变化超过一预定值，将抛光垫从基座上剥离，再另粘贴一抛光垫，如此达到在线自动检测抛光垫下方气泡，以提高效率及可靠性。
声明：
“化学机械抛光机台” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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