本申请提供了一种化学机械研磨设备。该化学机械研磨设备包括壳体、设置有研磨垫的抛光盘、研磨头和检测装置,其中,壳体具有容纳腔,抛光盘、研磨头和检测装置均位于所述容纳腔内,检测装置用于检测预定表面是否发生形变,预定表面为研磨垫远离抛光盘的表面。该化学机械研磨设备中加入了检测装置,检测装置根据检测到的研磨垫的预定表面,确定预定表面是否发生形变,相比现有技术中使用肉眼观察研磨垫的预定表面是否发生形变,不能对研磨垫的表面状态进行实时监控的方案来说,本申请的化学机械研磨设备的检测装置可以对研磨垫的表面进行监控,从而解决了现有技术中缺乏可以监控研磨垫表面状态的方案的问题。
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