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化学药剂清洗方法及化学药剂清洗装置

760   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 06:55:29
一种具有化学试剂循环的清洁装置，其中可以防止由清洁过程产生的气泡引起的空气侵入到循环路径中的设备气闸。当化学试剂从溢流罐排出时，螺旋涡流可以根据液位在出口附近产生。提供液位检测传感器，以检测液位已到达没有产生螺旋涡流的位置，该位置略高于液面高度。当化学试剂被存储在溢流罐中时，进行化学药剂清洗，从而在从溢流罐排出的化学试剂中产生气泡或混合到螺旋涡流中或发送到化学试剂储存罐的一侧。
声明：
“化学药剂清洗方法及化学药剂清洗装置” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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化学分析
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