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X射线荧光光谱分析低硅硅铁中主要元素含量的方法

859   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 06:54:46
本发明涉及一种X射线荧光光谱分析低硅硅铁中主要元素含量的方法，包括如下步骤：1)用压片法将各个有化学法定值的标准样品分别制成可供X射线荧光光谱仪分析的标准样片，并用化学法值作为标准值建立标准曲线；2)用X射线荧光光谱仪对上述标准样片分别进行扫描，建立基础分析条件；3)对标准样片按照基础分析条件用X射线荧光光谱仪分别进行测量，进行添加修正，拟合后，重新生成标准曲线；4)用压片法将待测样品制成可供X射线荧光光谱仪分析的待测样片；5)再用X射线荧光光谱仪对待测样片进行X射线荧光光谱分析。本发明采用超高压压片法用于样品制样，制样时间短，不用加粘结剂，一次成型，可显著提高分析效率，分析结果准确度高。
声明：
“X射线荧光光谱分析低硅硅铁中主要元素含量的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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