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光学元件亚表面损伤的化学刻蚀测量方法、辅助实验装置及试验方法

655   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 06:49:09
本发明涉及光学元件亚表面损伤的化学刻蚀测量方法、辅助实验装置及试验方法，该方法通过测量刻蚀过程中样品的粗糙度，绘制粗糙度轮廓随刻蚀时间的演化关系曲线，来得到亚表面损伤深度值。利用化学刻蚀辅助装置，实现对光学元件的刻蚀、清洗和烘干过程，并在清洗过程加入超声震荡仪辅助清洗，在烘干过程加入吹风机与电机辅助烘干。本发明能够快速、准确地测量出亚表面损伤深度，且设计了一套刻蚀辅助装置，装置操作简单、效率高、危险性低，而且能有效减少刻蚀过程中产生的沉积物，大大降低了其对刻蚀及测量的影响。
声明：
“光学元件亚表面损伤的化学刻蚀测量方法、辅助实验装置及试验方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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化学分析
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