本发明公开了一种利用原位化学荧光滴定测量氟原子产率的方法,本质上是一种经过改进的化学滴定方法。该方法特别适用于HF化学激光器,使用HF化学激光器中原本就存在的H2作为滴定剂,充分利用了HF化学激光器的原有装置,不需要进行额外改动,具有方便易用的特点。此外,该方法所用的滴定指示信号是光腔原位化学荧光中NH(A)发光强度和N2(B)发光强度的比值,该比值只与主气流中的气流组分有关,与荧光绝对强度无关,因此能够排除光谱测量时绝对光强度涨落噪声的影响,可以有效提高测量准确性。
声明:
“利用原位化学荧光滴定测量氟原子产率的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)