本发明涉及一种
电化学中基于荧光颗粒标记与主动光学测量的位移/应变测量方法。基于传统的DIC装置,将白色光源替换为单色激光光源,激光光源为避免与CCD相机位置的干涉,摆放位置与CCD相机成小角度的倾斜形式;在激光光源位置前加装扩束镜,扩大激光光束直径,确保激光能够照射试件表面待测区域;CCD相机摆放位置为正对试件表面,相机与试件之间的距离以能够成像清晰为准;由于采用单色激光光源,在CCD相机镜头前安装有滤光片,进行选择性滤光;与CCD相机配套的为计算机及图像采集卡的采集系统。本发明优化了散斑质量,提高了计算结果的精度要求,可广泛应用在光照变化剧烈、高温、电化学反应等特殊条件下材料的变形测量。
声明:
“电化学中基于荧光颗粒标记与主动光学测量的位移/应变测量方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究,如用于商业用途,请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)