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在使用多个光谱的化学机械抛光中的终点检测

709   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 06:45:15
一种计算机实施的方法包括:用实地光学监测系统获得至少一个当前光谱,将所述当前光谱与多个不同的参考光谱进行比较,和基于所述比较来确定对于具有经受抛光的最外层的基板来说是否已到达抛光终点。所述当前光谱是从基板反射的光的光谱,所述基板具有经受抛光的最外层和至少一个下面层。所述多个参考光谱代表从基板反射的光的光谱,所述基板具有厚度相同的最外层和厚度不同的下面层。
声明：
“在使用多个光谱的化学机械抛光中的终点检测” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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化学分析
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