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通过检测氧化物/氮化物界面使化学机械平面化过程最佳

970   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 06:45:15
把悬浮液加到包括抛光垫和适合于旋转的台板的抛光台;使一部分悬浮液能够填入抛光垫和晶片间的界面。连续地从悬浮液抽取气体样品;气体样品包括在抛光垫接触中止层时产生的反应产物。把气体样品输入反应产物探测器。确定悬浮液中的反应产物开始检测到的第一时间,由此建立第一参考点。确定悬浮液中检测最大反应物量的第二时间,由此建立第二参考点。处理第一和第二参考点获得信号,其中信号反映含反应产物的薄层的去除均匀性。
声明：
“通过检测氧化物/氮化物界面使化学机械平面化过程最佳” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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