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化学机械研磨缺陷检测方法

1086   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 06:44:48
本发明涉及集成电路制造工艺和版图设计技术领域，具体涉及一种化学机械研磨的缺陷检测方法，该方法包括：提取CMP工艺前的材料结构信息；确定CMP相关工艺参数；建立符合CMP去除机理的CMP预测模型；进行CMP缺陷检测版图设计，确定CMP工艺缺陷产生条件。利用本发明可以在版图设计阶段最小化化学机械研磨工艺缺陷区域面积，从而减小冗余金属填充数量，提高产品优良率。
声明：
“化学机械研磨缺陷检测方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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