本实用新型涉及半导体制造技术领域,尤其涉及一种检测窗口的保护装置及一种化学气相沉积机台,一对检测窗口设置于连接反应腔室的一气体传输管道的两侧,在反应腔室启动一清洁程序时,一检测装置通过一对检测窗口检测反应腔室内的气体浓度,一对检测窗口包括一第一检测窗口和一第二检测窗口;保护装置用于将两个检测窗口与气体传输管道内的气体隔离,保护装置包括:一第一隔离阀,设置于第一检测窗口与气体传输管道之间;一第二隔离阀,设置于第二检测窗口与气体传输管道之间。有益效果:使用两个隔离阀可以使两个检测窗口完全隔离反应气体,避免在不执行清洁程序时反应气体附着在检测窗口的表面,提高检测窗口的使用寿命,以及提高清洁的效果。
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