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检测源极多晶硅经化学机械研磨后表面异常的方法

735   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 06:42:49
一种检测源极多晶硅经化学机械研磨后表面异常的方法，采用KT电子扫描显微镜对源极多晶硅经化学机械研磨后的表面进行检测，KT电子扫描显微镜持续发射原生入射电子对源极多晶硅表面进行扫描，源极多晶硅表面的价电子被激发，形成二次电子，然后KT电子扫描显微镜侦测源极多晶硅表面被激发出的二次电子并成像，异常表面的成像亮度大于正常表面的成像亮度。本发明能够简单有效地检测到源极多晶硅的表面异常，降低了晶片受损的可能性。
声明：
“检测源极多晶硅经化学机械研磨后表面异常的方法” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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化学分析
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