本发明提供一种化学机械抛光垫,包括:具有抛光表面的抛光层;和光稳性聚合物终点检测窗,该检测窗包括含有氨基部分的芳香聚胺与异氰酸酯封端、含有未反应-NCO部分的预聚多元醇进行聚氨酯反应的产物,以及包括至少一种UV吸收剂和受阻胺光稳定剂的光稳定剂成分;其中以<95%的氨基部分与未反应-NCO部分的化学计量比来提供芳香聚胺和异氰酸酯封端的预聚多元醇;其中光稳性聚合物终点检测窗在持续等轴拉伸载荷为1kPa、60。℃恒温100分钟时测定具有≤0.02%的依时应变并且在380纳米的波长下对于1.3mm的窗厚度具有≥15%的双光通量;并且,其中抛光表面适用于抛光选自磁性基材、光学基材和半导体基材的基板。此外,本发明还提供了使用本发明的化学机械抛光垫抛光基材(优选半导体晶片)的方法。
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