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化学机械抛光中光谱终点的检测方法、装置及系统

642   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 06:38:40
本发明提供了一种化学机械抛光中光谱终点的检测方法、装置及系统，包括：根据晶圆表面被抛薄膜的光谱检测数据，确定被抛薄膜的平滑的光谱检测数据；根据平滑的光谱检测数据中关联的反射率数据与检测波长数据，确定平滑的光谱检测数据中的极值点及每个极值点对应的波长值；根据至少两个相邻极值点的波长值以及被抛薄膜的光学折射率，确定被抛薄膜的剩余厚度；在检测到被抛薄膜的厚度达到设定厚度阈值时，确定该被抛薄膜的厚度为抛光终点，以使化学机械抛光设备在抛光终点停止抛光；其通过计算晶圆表面被抛薄膜的剩余厚度，确定该被抛薄膜的厚度为抛光终点，提高了光谱终点的检测精确度，且提高了化学机械抛光设备的工作效率。
声明：
“化学机械抛光中光谱终点的检测方法、装置及系统” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
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