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化学铜分析控制装置

849   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 06:35:12
一种化学铜分析控制装置，包括控制主机和铜离子传感器，铜离子传感器垂直挂在铜缸边缘，铜离子传感器包括位于上部的电子箱以及位于下部的光学导管，光学导管浸在铜缸内的工作液中，电子箱露出铜缸的液面以上，控制主机的正面设有用于供操作的触摸屏，背面设有多个泵输出线孔，通过电缆线分别连接于多个添加泵，每个添加泵连接于一添加缸，添加缸内装有铜离子溶液，添加缸内还设有液位传感器，液位传感器连接于控制主机。通过控制主机自动控制溶液的添加，采用铜离子传感器测量铜缸内铜离子浓度，并在触摸屏上显示铜离子的测量值、目标值、上限值、下限值以及波动值在过去时间的变化趋势，从而对铜缸中化学铜工作液中铜离子进行测量分析。
声明：
“化学铜分析控制装置” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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