本发明涉及一种利用二硫代氨基甲酸钠(DTC‑TETA)改性黄铁矿抑制光腐蚀的制备方法,属于半导体和光化学领域。将黄铁矿粉碎,研磨,过100目筛,使用超纯水(体积1:10)冲洗5次,放置于‑20℃冰箱冷藏12h,然后使用真空冷冻干燥机干燥48h。称取0.2g黄铁矿样品至50mL烧杯中,摇动烧杯使样品均匀的平铺在烧杯底部。然后用1mL 5%的DTC‑TETA和样品混匀,在通风橱中风干20h,制成包膜黄铁矿样品,简称PY‑DT。本发明的改性黄铁矿抑制光腐蚀率高,在室温模拟太阳光条件下具有优于纯黄铁矿光腐蚀效果,光腐蚀抑制率可达到100%。
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