半导体用超高纯金属溅射靶材

3670
规格/型号:半导体用超高纯金属溅射靶材
品牌:暂无
咨询电话::暂无(请说明信息源自“中冶有色网”)
半导体用超高纯金属溅射靶材说明介绍
简介
高纯铝以及铝合金靶材:
1、产品包括:Al、Al30ppmSi,、Al0.5Si、Al0.75Si、Al0.8Si、Al1Si、Al0.5Cu、AlSiCu等;
2、纯度为4N~5N5;
3、不同的晶粒晶向满足客户的不同溅射需求;
4、能够和客户一起开发特制的各种类型长寿命靶材。
高纯钛靶材以及钛环:
1、产品包括:4N5钛、5N钛、低氧钛等;
2、不同的晶粒晶向满足客户的不同溅射需求;
3、能够为客户提供不同类型特制的长寿命靶材和环件。
高纯铜、铜合金靶材以及铜环、铜阳极:
1、产品包括:4N铜、4N5铜、5N铜、6N铜以及铜铝、铜锰等合金靶材、纯铜以及CuP阳极材料、纯铜
全国热门有色金属设备推荐