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高纯度科研用铝靶 已认证

高纯度科研用铝靶

浏览量 919
规格/型号:Ф76.2*5mm
品牌:暂无
应用领域:直流二极溅射、磁控溅射等工艺,可制备反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜等,
产地:北京 - 北京
咨询电话::18612792728(请说明信息源自“北方有色网”)
更新时间:2026-07-10
级别:已认证

高纯度科研用铝靶说明介绍

简介 铝靶材是真空镀膜行业中用于溅射镀膜的关键材料,由高纯度铝加工制成特定形状,应用于直流二极溅射、磁控溅射等工艺,可制备反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜等,也用于TFT-LCD和OLED显示屏的电极层和导电薄膜 。其纯度通常达99.995%以上,杂质含量低于0.005% ,主要分为平面靶材(圆形/方形)和旋转靶材(管状),后者利用率更高但加工工序复杂 。 技术参数
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企业认证:
营业执照已认证    手机号已认证
所属领域:
冶金,材料,钽铌
企业性质:
生产型
经营范围:
高纯化合物材料、高纯金属材料、高熵合金、溅射靶材、纳米粉末、镀膜材料、3D打印粉末、增材制造材料
联系电话:
18612792728
详细地址:
回龙观镇建材城西路87号院8号楼8层2-918-1
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