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4电弧提拉法单晶生长炉

4电弧提拉法单晶生长炉

221
规格/型号:HT-TL-CGF
品牌:恒通炉业
应用领域:材料制备
产地:河南 - 郑州
厂家/供应商:郑州恒通炉业有限公司
咨询电话::18039271502(请说明信息源自“中冶有色网”)
更新时间:2025-05-08
级别:待认证

4电弧提拉法单晶生长炉说明介绍

4电弧提拉法单晶生长炉

HT-TL-CGF是一款采用4电弧的提拉法单晶生长炉(采用Ar气电弧对样品熔融,提拉装置提拉),其温度可达3000℃。腔体为304不锈钢腔体(带有水冷夹层),真空度可达10-5Torr。此款单晶炉特备适合生长高熔点的单晶,如Ti单晶,YSZ,SIC和CeRh2Si等等。

技术参数:

腔体:

采用304不锈钢腔体,带有水冷夹层,可通入冷却水

腔体上安装有石英窗口,以便观察样品

腔体真空度:10-5Torr(采用分子泵)

腔体尺寸:∅257*360mm;

电弧枪:

共有4个电弧枪,可让样品得到均匀的温场(电弧枪都带有冷却水)

钨电极直径∅4mm

电弧腔体对样品的角度和距离可手动调节

起弧电源:17V/185A 电压380V

熔炼温度可达3000℃

样品台:

采用水冷坩埚

可投入样品量为60g(按铁计算)

提拉机构:

控制器控制提拉机构的提拉速度,行程和转速

提拉速度:0.2-10mm/h

提拉行程:0-70mm

转速:0-40RPM

控制单元:

可显示和设置单晶生长的参数(起弧电流,提拉杆转速,提拉行程和转速)

真空泵

设备中配有一分子泵系统(机械泵+涡旋分子泵)

抽气速率:100L/S

可使设备腔体的真空度达到10-5Torr(40分钟内)

循环水冷机:

功率:800W

水流速度:58L/min

制冷能力:5004W(17500Btu/hour)

温度控制:5~30℃

设备尺寸:

800mm*800mm*1500mm(L*W*H)

多晶材料在一个旋转的、冷却的铜炉中被四个电弧熔化。将一根冷冻的钨拉杆浸入热熔液中。在旋转过程中,拉杆缓慢抬起,使晶体生长。为了防止熔体和晶体氧化,整个过程在无氧和无湿的气氛中进行。可用于生长各种单晶体,包括硅、蓝宝石、氮化硅、碳化硅等,它可以生长高纯度、高质量和大尺寸的单晶体。


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