DE400 热阻蒸发仪可配置多组蒸发源,连续旋转的样品台或可倾角自转样品台。
	
	特点
	
	可选可倾角和自转基片台
	
	样品台可选水冷或加热
	
	可选手套箱
	
	典型应用
	
	用于薄膜沉积研发
	
	LIFT-OFF工艺的理想平台
	
	可蒸发金属,半导体、介质材料或有机材料
	
	主要配置
	
	
	真空阀门 高真空插板阀
	
	蒸发源 多组热蒸发源
	
	样品台 连续旋转的样品台或可倾角自转样品台
	
	膜厚检测 晶振膜厚监控
	
	真空测量 宽量程真空计
	
	主要技术指标
	
	极限真空度 优于5E-7Torr
	
	基片尺寸 可选:2英寸、4英寸、6英寸、8英寸、12英寸
	
	膜厚均匀性 优于+/-3%
	
	蒸发速率分辨率 0.01 A/s
	
	膜厚分辨率 0.1 A