1200℃RTP退火炉
产品型号:CY-RTP1000-Φ300-T
简单介绍:
1200℃RTP退火炉是一款12寸片快速退火炉,采用革新的加热技术,可实现真正的基底温度测量,不需要采用传统快速退火炉的温度补偿,温度控制**,温度重复性高,客户包括国际上许多半导体公司及知名科研团队,是半导体制程退火工艺的理想选择
详情介绍:
1200℃RTP退火炉是一款12寸片快速退火炉,采用革新的加热技术,可实现真正的基底温度测量,不需要采用传统快速退火炉的温度补偿,温度控制**,温度重复性高,客户包括国际上许多半导体公司及知名科研团队,是半导体制程退火工艺的理想选择。
技术特色:
• 真正的基片温度测量,无需传统的温度补偿
• 红外卤素管灯加热
• 极其优异的加热温度**性与均匀性
• 快速数字PID温度控制
• 不锈钢冷壁真空腔室
• 系统稳定性好
• 带触摸屏的PC控制
• 兼容常压和真空环境,真空度标准值为5×10-3Torr,采用二级分子泵真空度低至5×10-6Torr
• *高3路气体(MFC控制)
• 没有交叉污染,没有金属污染
技术参数: