吉致针对碳化硅sic抛光的4道工艺制程搭配不同型号研磨液、抛光液和抛光垫(粗磨垫/精磨垫/粗抛垫/精抛垫)。在研磨和抛光应用中提高碳化硅衬底表面质量,同时大大提高材料去除率。
吉致电子陶瓷类抛光液适用于碳化物、氮化物、氧化物和硼化物各精密陶瓷件的镜面抛光,通过CMP抛光工序可得到理想镜面效果,表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。
合金铜CMP抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的铜、合金铜工件的镜面抛光,CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用,可以使铜金属表面得到加工和平整坦化。化学氧化铜金属后磨蚀性去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果,工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。
金属钼片抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的钼、钼合金工件的镜面抛光,抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用,可以使钼金属表面快速去粗和平整坦化。化学氧化腐蚀钼合金表面,研磨去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果,金属钼工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。
别名:锆珠,氧化锆珠,氧化锆陶瓷珠,氧化锆陶瓷微珠,钇稳定氧化锆陶瓷微珠应用领域:博迈氧化锆珠采用高品位的钇稳定氧化锆粉,具有高强度、超低磨耗及高研磨效率性能。主要应用于电子陶瓷、磁性材料、氧化铝粉、
95%钇稳定陶瓷氧化锆研磨介质(氧化锆珠)产品介绍钇稳定氧化锆珠:由于此类氧化锆珠的氧化锆含量近似95%,所以通常称作“95锆“或“纯氧化锆铢”。其使用稀土氧化钇做稳定剂,采用高白度、高细度的原材料确
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