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用于脱除展青霉素的纳米材料的合成与应用

747   编辑：管理员   来源：中冶有色技术网  
2023-03-19 08:01:29
本发明属于分析化学技术领域，尤其涉及一种用于脱除展青霉素的纳米材料的合成与应用，本发明采用2‑Oxin为替代模板，AM为功能单体，以合成的Fe3O4@SiO2@CS‑GO磁性纳米粒子为载体，通过表面印迹法制备了特异性针对于Pat吸附的磁性MIP。Fe3O4的加入使得最终制备的分子印迹吸附材料具有磁性，有利于材料与基质间的分离，免去了过滤、离心等繁杂的操作步骤，方便材料的回收。
声明：
“用于脱除展青霉素的纳米材料的合成与应用” 该技术专利(论文)所有权利归属于技术(论文)所有人。仅供学习研究，如用于商业用途，请联系该技术所有人。
我是此专利(论文)的发明人(作者)
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标签：
化学分析
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