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氟化镱靶材(YbF3)

氟化镱靶材(YbF3)

浏览量 214
规格/型号:暂无
品牌:科泰
应用领域:材料
产地:江西 - 南昌
厂家/供应商:江西科泰新材料有限公司
咨询电话::19170716858(请说明信息源自“北方有色网”)
更新时间:2026-07-20
级别:待认证

氟化镱靶材(YbF3)说明介绍

氟化镱靶材(YbF3)

氟化镱靶材(YbF3)基本信息

分子式: YbF3

纯度: 99.99%

CAS号: 13760-80-0

摩尔质量: 230.04

密度: 4.01

熔点: 1157 °C

沸点: 2200 °C

溶解性(水): 不溶于水和稀酸

氟化镱靶材(YbF3)产品概况

氟化镱靶材(YbF₃)是以高纯金属镱(Yb,纯度≥99.99%)与氟化剂为原料,通过真空热压烧结与表面钝化技术制备的稀土氟化物靶材,化学计量比Yb:F=1:3.00±0.02,密度≥7.12 g/cm³(理论密度≥95%)。其具备极低光学吸收(400-8000 nm波段吸收系数<10⁻⁴ cm⁻¹)、高热稳定性(熔点>1150℃)及优异抗潮解性(湿度>90%环境下无水解),适配热蒸发、离子束溅射(IBS)等工艺,用于沉积红外增透膜、激光防护层及紫外截止滤光片。产品通过精准氧含量控制(O<100 ppm)、亚微米晶粒细化(晶粒尺寸≤500 nm)及无裂纹致密结构,满足高能激光系统、空间光学器件及半导体光刻设备对低损耗镀膜材料的严苛需求,是高端光学镀膜与特种功能涂层的核心材料。

氟化镱靶材(YbF3)产品应用

氟化镱靶材(YbF₃)凭借其宽谱低损耗、超高激光损伤阈值及卓越环境稳定性,成为高能激光、红外光学与半导体光刻领域的战略级镀膜材料。

高能激光系统:激光谐振腔低损耗反射膜(吸收损耗<5 ppm)。

抗激光损伤防护层(阈值>15 J/cm² @1064 nm)。

红外光学:中波红外(MWIR)窗口增透膜(3-5μm透过率>99%)。

太赫兹波导氟化物涂层(衰减<0.1 dB/cm)。

半导体光刻:EUV光刻机掩模保护膜(13.5 nm波段反射率优化)。

深紫外(DUV)光学元件防污染层。

特种功能镀膜:空间望远镜抗辐射氟化物膜层(质子辐照后透过率下降<2%)。

海洋探测设备防盐雾腐蚀涂层。
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