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高纯度科研用硼靶 已认证

高纯度科研用硼靶

浏览量 892
规格/型号:Ф40*4mm
品牌:暂无
应用领域:半导体制造:用于晶圆掺杂,改变硅晶圆的电子特性,形成 PN 结,是制造集成电路的关键步骤 。 电子器件:可制备磁性薄膜,用于硬盘驱动器的磁记录层、磁传感器的敏感元件等;还可制备光学薄膜,应用于光通信、
产地:北京 - 北京
咨询电话::18612792728(请说明信息源自“北方有色网”)
更新时间:2026-07-10
级别:已认证

高纯度科研用硼靶说明介绍

简介 高纯硼靶材是一种用于 物理气相沉积 (PVD)技术,特别是 溅射镀膜 工艺的关键性基础材料。 它通常由 高纯度 的硼(B)粉末经过一系列复杂的工艺(如热压、热等静压等)制成具有一定形状(如圆形、矩形)和机械强度的固体靶材,并背靶焊接在金属垫片上,以便安装在溅射设备中使用。 “高纯”是硼靶材的核心指标之一,通常要求纯度在99.95%(3N5)以上,甚至达到99.999%(5N)级别。 技术参数
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企业认证:
营业执照已认证    手机号已认证
所属领域:
冶金,材料,钽铌
企业性质:
生产型
经营范围:
高纯化合物材料、高纯金属材料、高熵合金、溅射靶材、纳米粉末、镀膜材料、3D打印粉末、增材制造材料
联系电话:
18612792728
详细地址:
回龙观镇建材城西路87号院8号楼8层2-918-1
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