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工作原理
Quattro C/S采用热场发射电子源（Schottky发射），通过静电透镜聚焦电子束，扫描样品表面并激发二次电子/背散射电子。环境真空模式（气压50Pa~130Pa）可消除非导电样品电荷积累，避免传统高真空需镀膜的步骤。设备搭载赛默飞专利的“多模式探测器”与“智能束流控制技术”，实现纳米级分辨率（≤1nm）与宽加速电压范围（200V~30kV），符合ISO 15708与ASTM E1508标准。
应用范围
该仪器适用于材料科学（纳米材料形貌表征、金属腐蚀界面观察）、生命科学（细胞超微结构成像、生物材料表面修饰验证）、工业检测（电子元器件失效分析、涂层均匀性检测）及半导体工业（芯片缺陷定位、光刻胶边缘轮廓测量）等领域。其环境真空模式可直接观察非导电样品（如陶瓷、聚合物），是微观成像与成分分析的核心工具。
产品技术参数
加速电压：200V~30kV（连续可调）
分辨率：≤1nm（30kV，SE模式），≤2nm（1kV，低真空模式）
放大倍数：10×~1,000,000×（连续可调）
真空模式：高真空（<6×10⁻⁴Pa）、低真空（50Pa~130Pa）
样品室：最大样品尺寸φ150mm（厚度≤50mm），支持多角度倾斜（0°~90°）
探测器：In-Lens SE探测器、背散射电子探测器（BSD）、EDS/WDS联用接口
软件平台：FEI Velocity™（支持自动对焦、三维重建、EDS成分映射）
数据接口：千兆以太网、USB 3.0
电源：AC 200-240V（50/60Hz，功率≤3kW）
尺寸：2000mm×1500mm×1800mm（重量≤2000kg）
产品特点
热场发射源，高亮度与稳定性：Schottky发射体提供稳定束流（≤1nA/cm²），长期使用分辨率无衰减；
环境真空模式，无镀膜成像：支持非导电样品（如陶瓷、生物样本）直接观察，消除传统镀膜干扰；
多模式探测与联用能力：集成SE/BSD探测器，支持EDS（能量色散X射线谱）、WDS（波长色散X射线谱）联用分析；
智能化软件平台：FEI Velocity™软件支持自动对焦、三维渲染、成分映射与定量报告生成；
大样品容量与灵活性：最大150mm直径样品台，支持多角度倾斜与原位拉伸/加热附件；
安全防护设计：辐射防护罩、紧急停止、真空泄漏保护，符合实验室安全规范；
合规认证：通过CE认证，符合ISO 15708、ASTM E1508标准。
Quattro C/S提供一年整机质保与电子源校准服务，其精准、灵活、多功能的特性，成为扫描电子显微分析领域的高端解决方案，助力用户实现从基础研究到工业质量控制的全流程需求。
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2025年10月23日 ~ 25日
